常見分散方法的球磨法或砂磨機，在分散時物料、磨珠與機體之間的撞擊會對納米晶、混懸劑中的納米顆粒造成損傷，磨損的材料進入料液中會變成難以除去的雜質(zhì)，這對料液的純度產(chǎn)生不利的影響，此外，機械力過大時局部升溫過快，也會導(dǎo)致物料的不穩(wěn)定，影響后續(xù)的使用。
 
日本HM&M的UAM機型珠磨機采用立式珠磨設(shè)計，使得流經(jīng)腔體的物料能獲得充分的珠磨分散和破碎，獲得更為均一體系。同時，UAM機型珠磨機采用離心式磨珠分離器應(yīng)對微珠分離，利用離心力將磨珠和漿液分離，因此不需要考慮漿液出口處的間隙大小，即使是使用微珠，也不會發(fā)生堵塞。可使用Φ15μm至1 mm的磨珠。當(dāng)使用Φ0.1mm或更小的磨珠進行處理時，能應(yīng)對100nm以下的納米粒子的漿料分散。例如無機化合物，例如陶瓷的原料，電子材料，光學(xué)材料等以及顏料。這是所有珠磨機里面分散能力較強的納米粒子分散機。歷經(jīng)20 多年，我們對該機型進行了多次改良。這是將亞微米級分散到納米級顆粒的分散機。并為鈦酸鋇，有機螯合顏料，液晶涂層劑等的納米顆粒加工技術(shù)的做出了貢獻。

除開微米級磨珠，相對較大的Φ0.5至1mm的磨珠也同樣適用于這款機型，因此還可以將各種材料粉碎至從亞微米級到納米級的粒子，適用范圍廣，可應(yīng)用于亞微米粒子的粉碎或納米粒子的分散等多個領(lǐng)域。同時，設(shè)計簡單，易于拆卸和組裝。也容易回收殘留在研磨腔體中的漿料。

1.此機型可應(yīng)對微珠，應(yīng)對亞微米至納米粒子的粉碎分散處理！

可應(yīng)對15μm的超細(xì)磨珠下的分散處理，能將漿液里的微粒細(xì)分散至20nm。同時，UAM具有高分散力的攪拌器結(jié)構(gòu)，是具備高效處理能力的分散機。

2.磨珠的切換方法簡單，一臺設(shè)備能應(yīng)對多種不同的漿液處理！

可使用的磨珠范圍十分廣泛，φ15μｍ～φ1ｍｍ的磨珠都可使用。 由于具有離心式的磨珠分離器，因此即使使用不同直徑的磨珠，也無需進行任何機械調(diào)整。僅用一臺設(shè)備即可對多種漿料進行連續(xù)處理、例如可同時進行預(yù)粉碎處理和分散處理。

3.拆卸和組裝的操作簡單，易于回收漿料！

這款立式珠磨機，設(shè)計十分簡單，易于拆卸和組裝。也很容易回收殘留在粉碎機中的漿料。

4.具有良好的清潔性！

對于衛(wèi)生要求相對高的行業(yè)中，例如食品，化妝品和醫(yī)藥等，我們還提供具有完備清潔性的粉碎裝置，為此，我們對死角位置和密封接合處的形狀進行了改善。