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上海申思特自動化設(shè)備有限公司

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美國Filmetrics測量儀上海一級代理

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  • 上海申思特自動化設(shè)備有限公司
  • 2022-11-25 15:56:30
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我要詢價 具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

【簡單介紹】

產(chǎn)地類別 進口 應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
美國Filmetrics公司、美國Filmetrics授權(quán)總代理、美國Filmetrics杭州辦事處、美國Filmetrics測量儀有現(xiàn)貨、美國Filmetrics工廠、美國Filmetrics在中國、美國Filmetrics價格好、美國Filmetrics*
美國Filmetrics測量儀上海一級代理

【詳細說明】

美國Filmetrics測量儀上海一級代理
Filmetrics F20便攜式膜厚測試儀
Filmetrics簡介
經(jīng)濟有效的Filmetrics薄膜厚度測量系統(tǒng),測量薄膜厚度僅需幾秒鐘。
Filmetrics 膜厚測試儀產(chǎn)品輕點鼠標(biāo)就能測量1納米到13毫米的薄膜厚度。幾乎所有的材料都可以被測量。直觀的設(shè)計意味著您能在幾分鐘內(nèi)完成*個薄膜厚度測量!
1.只需要運行基于Windows的軟件,連接Filmetrics設(shè)備,然后,開始測量。
2.方便地存儲或輸出詳細測量資料。
3.快速地將我們的厚度測量系統(tǒng)與其它系統(tǒng)通過.軟件整合。
每秒兩個點薄膜測繪F20 薄膜厚度的測量系統(tǒng)
測量反射率和透射率
測量光斑小至1微米(μm)
每秒兩個點薄膜測繪
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自動晶圓處理系統(tǒng)
Filmetrics F20產(chǎn)品簡介:
1  有五種不同波長選擇(波長范圍從紫外220nm至近紅外1700nm);
2  zui大樣品薄膜厚度的測量范圍是:3nm ~ 25um;
3  精度為好于0.1nm。
產(chǎn)品特性:
1 、操作簡單、使用方便;
2 、測量快速、準(zhǔn)確;
3 、體積小、重量輕;
4 、價格便宜。
Filmetrics F20產(chǎn)品應(yīng)用:
1 、半導(dǎo)體行業(yè): 光阻、氧化物、氮化物;
2 、LCD 行業(yè): 液晶盒間隙厚度、 Polyimides;用f20來測量透明的藍寶石上的光刻膠,ito,多層氧化硅氧化鈦等薄膜厚度,該機操作簡易,毫秒間就能測量出準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)。
3 、光電鍍膜應(yīng)用: 硬化膜、抗反射膜、濾波片。
Filmetrics F20的技術(shù)
我們通過分析光如何從薄膜反射來測量薄膜厚度。通過分析肉眼看不見的光譜我們能測量幾乎所有超過100原子厚度的非金屬薄膜。因為不涉及任何移動設(shè)備,幾秒鐘之內(nèi)就能測出:薄膜厚度,折射率,甚至粗燥度!
其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間,測量精度高達1埃,測量穩(wěn)定性高達0.7埃,測量時間只需一到二秒, 并有手動及自動機型可選??蓱?yīng)用領(lǐng)域包括:生物醫(yī)學(xué)(Biomedical), 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors) , 太陽光伏(Solar photovoltaics), 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。
美國Filmetrics測量儀上海一級代理
通過Filmetrics膜厚測量儀反射式光譜測量技術(shù),zui多4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得。其應(yīng)用廣泛,例如 :
半導(dǎo)體工業(yè) : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工業(yè) : 間距 (cell gaps),ito電極、polyimide 保護膜。
光電鍍膜應(yīng)用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。
極易操作、快速、準(zhǔn)確、機身輕巧及價格便宜為其主要優(yōu)點,F(xiàn)ilmetrics提供以下型號以供選擇:
F20 : 這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區(qū) 至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型,可以實現(xiàn)反射、膜厚、n、k值測量。
F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口。可實時監(jiān)控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。更可加裝至三個探頭,同時測量三個樣品,具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長可供選擇。
F40:這型號安裝在任何顯微鏡外,可提供zui小5um光點(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。
F50:這型號配備全自動XY工作臺,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。
F70:僅通過在F20基本平臺上增加鏡頭,使用Filmetrics的顏色編碼厚度測量法(CTM),把設(shè)備的測量范圍極大的拓展至3.5mm。
F10-RT:在F20實現(xiàn)反射率跟穿透率的同時測量,特殊光源設(shè)計特別適用于透明基底樣品的測量。
PARTS:在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70?光源,特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量。
高級膜厚測量儀系統(tǒng)F20
使用F20高級分光計系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學(xué)參數(shù)(n和k)。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù)。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個桌面系統(tǒng)組裝起來。
F20包括所有測量需要的部件:分光計、光源、光纖導(dǎo)線、鏡頭集合和Windows下運行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。
膜層實例

Filmetrics光學(xué)膜厚測量儀的資料

其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間,測量精度高達1埃,測量穩(wěn)定性高達0.7埃,測量時間只需一到二秒, 并有手動及自動機型可選。可應(yīng)用領(lǐng)域包括:生物醫(yī)學(xué)(Biomedical), 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors) , 太陽光伏(Solar photovoltaics), 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。
通過Filmetrics膜厚測量儀反射式光譜測量技術(shù),zui多4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得。其應(yīng)用廣泛,例如 :
半導(dǎo)體工業(yè) : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工業(yè) : 間距 (cell gaps),ito電極、polyimide 保護膜。
光電鍍膜應(yīng)用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。
極易操作、快速、準(zhǔn)確、機身輕巧及價格便宜為其主要優(yōu)點,F(xiàn)ilmetrics提供以下型號以供選擇:
F20 : 這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區(qū) 至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型,可以實現(xiàn)反射、膜厚、n、k值測量。
F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口??蓪崟r監(jiān)控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。更可加裝至三個探頭,同時測量三個樣品,具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長可供選擇。
F40:這型號安裝在任何顯微鏡外,可提供zui小5um光點(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。
F50:這型號配備全自動XY工作臺,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。
F70:僅通過在F20基本平臺上增加鏡頭,使用Filmetrics的顏色編碼厚度測量法(CTM),把設(shè)備的測量范圍極大的拓展至3.5mm。
F10-RT:在F20實現(xiàn)反射率跟穿透率的同時測量,特殊光源設(shè)計特別適用于透明基底樣品的測量。
PARTS:在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70o光源,特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量。

高級膜厚測量儀系統(tǒng)F20

使用F20高級分光計系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學(xué)參數(shù)(n和k)。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù)。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個桌面系統(tǒng)組裝起來。

F20包括所有測量需要的部件:分光計、光源、光纖導(dǎo)線、鏡頭集合和Windows下運行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。

膜層實例

幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括:

sio2(二氧化硅)          sinx(氮化硅)                     dlc(類金剛石碳)

photoresist(光刻膠)     polyer layers(高分子聚合物層)      polymide(聚酰亞胺)

polysilicon(多晶硅)      amorphous silicon(非晶硅)

基底實例:

對于厚度測量,大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學(xué)常數(shù)測量,需要一塊平整的鏡面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要進行處理使之不能反射。

包括:
silicon(硅)            glass(玻璃)               aluminum(鋁)

gaas(砷化鎵)        steel(鋼)                 polycarbonate(聚碳酸脂)

polymer films(高分子聚合物膜)

應(yīng)用

半導(dǎo)體制造

液晶顯示器

光學(xué)鍍膜

photoresist光刻膠

oxides氧化物

nitrides氮化物

cell gaps液晶間隙

polyimide聚酰亞胺

ito納米銦錫金屬氧化物

hardness coatings硬鍍膜

anti-reflection coatings增透鍍膜

filters濾光

f20 使用高級仿真活動來分析光譜反射率數(shù)據(jù)。

標(biāo)準(zhǔn)配置和規(guī)格


F20-UV

F20

F20-NIR

F20-EXR

只測試厚度

1nm ~ 40μm

15nm ~ 100μm

100nm ~ 250μm

15nm ~ 250μm

測試厚度和n&k值

50nm and up

100nm and up

300nm and up

100nm and up

波長范圍

200-1100nm

380-1100nm

950-1700nm

380-1700nm

準(zhǔn)確度

大于 0.4% 或 2nm

精度

1A

2A

1A

穩(wěn)定性

0.7A

1.2A

0.7A

光斑大小

20μm至1.5mm可選

樣品大小

1mm至300mm 及更大

探測器類型

1250-元素硅陣列

512-元素 砷化銦鎵

1000-元素 硅 & 512-砷化銦鎵陣列

光源

鎢鹵素?zé)?,氚?/p>

電腦要求

60mb 硬盤空間
50mb 空閑內(nèi)存
usb接口

電源要求

100-240 vac, 50-60 hz, 0.3-0.1 a


選配以下鏡頭,就可在F20的基礎(chǔ)上升級為新一代的F70膜厚測量儀。

鏡頭配件

厚度范圍
(Index=1.5)

精度

光斑大小

UPG-F70-SR-KIT

15 nm-50 μm

0.1 nm

標(biāo)配1.5 mm (可選配下至20 μm)

LA-CTM-VIS-1mm

50 μm-1.5 mm

0.15 μm

5 μm

LA-CTM-VIS-2.4mm

150 μm-3.5 mm

0.1 μm

10 μm



產(chǎn)品應(yīng)用,在可測樣品基底上有了極大的飛躍:
幾乎所有材料表面上的鍍膜都可以測量,即使是藥片,木材或紙張等粗糙的非透明基底。
玻璃或塑料的板材、管道和容器。
光學(xué)鏡頭和眼科鏡片。

美國Filmetrics薄膜測厚儀北京總代理
美國Filmetrics F-20 F-30 F-40等等價格好,貨期短。
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