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Product CenternanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统是由摩方精密自主研发的超高精度微尺度3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。
摩方超高精度光固化3d打印机microArch® S230 2μm高精度微纳3D打印系统，基于BMF摩方的技术⸺面投影微立体光刻技术（PμSL）构建。全自动水平调节系统：平台自动调平、膜面自动调平、滚刀自动调节三大系统，打印效率提升近50倍。