产品分类
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- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
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桌面型磁控溅射镀膜仪上... 磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，...
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双靶磁控溅射镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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粉末磁控溅射镀膜仪 粉末磁控溅射镀膜仪是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备，利用磁控溅射技术将粉末状的靶材转化为薄膜覆盖在基材上
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桌面型磁控溅射镀膜仪下... 磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，...
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桌面型磁控溅射镀膜仪上... 磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，...
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高真空三靶磁控溅射镀膜... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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分体式高真空三靶磁控溅... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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分体式高真空双靶磁控溅... 双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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桌面型单靶直流磁控溅射... 单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
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桌面型双靶磁控溅射镀膜... 本设备为双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备...
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高真空4英寸三靶磁控溅... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等
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下置四靶磁控溅射镀膜仪 四靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜
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卧式高真空三靶磁控溅射... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等
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小型台式单靶磁控溅射镀... 桌面型石英腔体单靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SE...
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桌面型不锈钢腔体单靶磁... 单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
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粉体磁控溅射包覆机 粉体磁控溅射包覆机是通过粉未在溅射腔室内的旋转，以达到粉未表面均匀包覆的效果。腔室可旋转、倾斜，能快速出料。
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真空腔体 该真空腔体非常适合物理沉积 (PVD)、化学沉积 (CVD)、等离子体化学沉积 (PECVD)、热喷涂、电子束溅射等多种...
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三靶磁控溅射镀膜仪 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物...
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单靶直流磁控溅射镀膜仪 该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、...
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三靶直流磁控溅射镀膜仪 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜...