产品名称：桌面型双靶磁控溅射镀膜仪

本设备为双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。

本套配置采用高真空不锈钢腔体，腔体设置带挡板的石英观察窗，便于实验的观察记录；腔体设计真空性能优良，造型小巧，十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手。

技术参数：

产品名称	桌面型不锈钢腔体双靶磁控溅射镀膜仪
产品型号	CY-MSZ254-II-DC-SS
样品台	外形尺寸	φ100mm
	可调转速	≦20rpm
磁控靶枪	配两支两英寸磁控靶，靶材尺寸:直径50.8mm，厚度≦3mm
真空腔体	腔体尺寸	φ254mm X 300mm
	观察窗口	前置式
	腔体材料	304不锈钢
	开启方式	上盖开启及前开门
真空系统	前级泵	低噪音双极旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速涡轮分子泵（选配）
	真空测量	复合真空计，量程:10-5~105Pa
	抽气接口	KF16
	排气接口	KF16
	系统真空	1.0×10-4Pa
	供电电源	AC 220V 50/60Hz
	抽气速率	前级泵抽速1.1L/s
电源配置	电源数量	直流电源一套
	输出功率	直流电源500W
其他参数	供电电压	AC220V,50Hz
	整机功率	2kW
	整机尺寸	550mm X 350mm X450mm