技術文章
Technical articles直流磁控濺射儀濺射方式是調動靶材內磁場，使金屬離子轟擊到樣品表面的鍍膜方式。目前只能支持金屬靶材。已經測試過的靶材有金、銀、銅、鉻、鎳、鋁、以及部分合金(鎳鐵合金)。靶材正常是2mm，不帶磁性的話最多5mm，帶磁性的不要超過2mm，否則會有干擾。以下是對一些特殊金屬鍍膜要求:銅：正常顏色為藍綠色，或灰色偏綠。鋁:鍍鋁推薦使用高真空分子泵。真空時間抽長一些，測試時間60s，電流500，真空度3-5pa，等電壓上升到250以上時，可以調小電流，調小真空，白光鍍不上，正常顏色為紅色...
真空封管機，是一種用于在高真空或特定保護氣氛（如氬氣、氮氣）環境下，將石英玻璃管（偶爾也用于特種玻璃管）熔融密封的實驗或生產設備。一、核心原理分解1.抽真空與置換氣氛這是整個過程的先決條件，目的是創造一個無氧、無水、無其他干擾氣體的純凈環境。連接系統：將裝有樣品的石英管（一端預先開口）通過真空橡膠管或金屬波紋管連接到真空封管機的抽氣系統上。石英管的開口端會伸入封管機的加熱區（通常是氫氧焰或大功率電加熱圈）。抽真空：啟動真空泵（通常是機械泵+分子泵組成的高真空系統），將石英管內...
半導體制冷臺的核心在于利用帕爾貼效應(PeltierEffect)，這是一種熱電效應現象。當兩種不同類型的半導體材料——N型和P型半導體被連接成電偶并通入直流電時，會在兩端產生溫度差異。具體來說，電流方向是從N型流向P型的區域會吸收熱量(冷端)，而從P型返回N型的區域則釋放熱量(熱端)。這種能量轉移過程使得一側能夠實現降溫，另一側則升溫。為了增強制冷效果，實際使用的半導體制冷片內部由數百個這樣的電偶組成熱電堆結構，通過疊加作用大幅提升了整體的效率。半導體制冷臺的使用注意事項：...
半導體制冷臺環保無污染，由于不依賴氟利昂等有害化學物質作為工作介質，因此不會對環境造成破壞，也無需擔心泄漏問題。這使得它在需要嚴格控制污染的場景中具有明顯優勢；沒有運動部件的設計消除了機械噪音源，同時減少了設備運行時的震動幅度，非常適合用于對穩定性要求高的精密儀器環境。得益于其緊湊的結構設計，半導體制冷裝置可以做到極小尺寸(如小于50mm×3mm)且重量輕(低于1g)，便于集成到空間受限的應用場合；同一設備既能用來制冷也能切換為制熱模式，只需改變電流方向即可實現功能轉換，大大...
氣體質量流量控制器作為精密流體控制設備，廣泛應用于半導體制造、生物醫藥、化工實驗等領域，其穩定性與精度直接影響生產工藝效果。科學的養護可顯著提升設備壽命、保障測量精度，以下從日常檢查、定期校準、清潔保養、特殊場景維護四方面闡述系統化養護方案。一、日常檢查：實時監控運行狀態每日開機前需執行基礎巡檢：觀察面板顯示是否正常，確認無報警代碼；檢查氣路接口是否松動或漏氣(可用肥皂水涂抹檢測)；核實工作電壓與電流參數是否符合設備標稱值。若配備過濾器，需查看壓差指示器，當阻力超過閾值時應及...
高壓功率器件的測試主要分為三類：1.靜態參數測試（DC測試）：目的：測量器件在穩定導通或關斷狀態下的性能。方法：施加直流電壓或電流，測量其響應。關鍵參數：擊穿電壓(Vbr)、漏電流(Idss)、導通電阻(Rds(on))、閾值電壓(Vth)、輸出特性曲線(I-V曲線)。2.動態參數測試（Switching測試）：目的：測量器件在高速開關過程中的性能，這是評估開關損耗和EMI的關鍵。方法：給器件施加高頻的脈沖信號，使用示波器捕捉電壓和電流的瞬態波形。關鍵參數：開關時間（開啟延遲...
拉曼光譜是一種基于拉曼散射效應的分子振動光譜技術，通過分析散射光頻率變化揭示物質分子結構信息。其核心原理是入射光與分子相互作用后發生非彈性散射，產生頻率偏移的拉曼位移（通常為斯托克斯線或反斯托克斯線），該位移對應分子振動/轉動能級躍遷。拉曼光譜測試需要使用單色光作為光源，通常使用激光作為激發光源。在測試樣品時需要顯微鏡盡可能靠近樣品，使激光光斑最小化，從而測出理想的效果（一般50X鏡頭即可）；在測試時需要注意保護顯微鏡鏡頭，確保在加熱狀態下因為鏡頭離得太近，熱對流加熱鏡頭，導...
在濺射鍍膜工藝中，z因子和工具因子(Tooling值)是兩個關鍵參數，分別用于描述薄膜沉積行為和修正設備誤差。以下是具體解析:一、z因子的定義與計算1.概念:z因子是描述薄膜沉積過程中粒子行為的參數，反映粒子在氣相中的擴散程度，直接影響薄膜的粒子尺寸分布和性能優化。2.計算公式:二、工具因子(Tooling值)的定義與計算1.概念:工具因子是量化鍍膜機內基片與蒸發源(或濺射靶材)相對位置關系的參數，用于修正膜厚誤差，確保沉積速率的空間分布均勻性。2.計算邏輯:薄膜厚度(t)與...